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多元素組成薄膜の作製プロセスに関する研究

  • 公開日: 2020-09-10
  • 変更日: 2020-09-14
添付:PDFファイル

今日のエレクトロ.::.クスを支えているLSIやICチッブ,FPiO等のデパイスは.薄膜なくしては作れない.しかし.Siを主原料とする
デパイスは. サイズ的にも性能的にも限界を迎えつつありより高性能•新機能なデパイスが求められているこれら新デパイスを開発
するには多元素化合物に代表される新材料を薄膜化して用いる.::とが必要不可欠であるが.新デパイス用多元素薄膜の作製には.
従来の薄膜作鰻装置とぱ比較にならない高価格・高性能な作製装置が必要とされ開発の妨げの一因となっている,
そこで本研究では,従来より広く製造現場に導入されている薄膜作製装口を用い,アニーリングやパッファリング技術を組み合わせ
ることによって,新デパイスに利用可能な多元素薄膜の作製ブロセス確立を目的に研究を行っている,今のところ,酸化物高温超伝導
体(セラミック材)を新材料の一例として且つ粉末ターゲットとして用い.高周波2元マグネトロンスバッタリング装近での頭膜作製から
アニーリングにおける一運のブロセスをin-situで取り扱っている,
企業メリット
・新材料を用いたデバイス用薄膜の作製に関して,試作を通じた検証を行うことが可能
キーワード
・薄膜,粉末スパッタリング, アニール,バッファリング
主要な研究テーマ
・酸化物高温超伝導薄膜作製プロセスに関する研究
技術相談に応じられる分野
・薄膜化/デバイス化技術,結晶解析,低温測定技術ほか
利用可能な装置等
・高周波2元マグネトロンスパッタリング装置,低温(Liq.N2温度レベル)電気特性測定装置等


カテゴリ : シーズ(得意な技術・サービス等)
対象エリア: 選択なし
有効期限 : 無期限

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